Uusimpien 5G-kännyköiden järjestelmäpiirien litografiassa on tapahtumassa iso muutos. Niiden järjestelmäpiirejä valmistavissa tehtaissa ollaan jo siirtymässä viime viikolla ilmestyneen Uusiteknologia-lehden mukaan EUV-tekniikan avulla 13 nanometrin aallonpituuteen. Koko artikkeli on luettavissa sähköisenä printtilehden tyylisestä näköislehtenä – täysin vapaasti.